شرکت SMIC که یکی از تولیدکنندگان کلیدی تراشه‌های سری Kirin هواوی به‌شمار می‌رود، توسعه‌ی فرایند پنج نانومتری خود را از مدتی قبل آغاز کرد. بر اساس گزارش‌ بیزنس‌ کوریا، به‌نظر می‌رسد SMIC در دستیابی به این هدف مهم موفق عمل کرده و این یعنی فرایند پنج نانومتری چینی‌ها اکنون برای تولید انبوه تراشه‌ها آماده است.

دستاورد SMIC در توسعه‌ی فرایند پنج نانومتری برای تولید تراشه، باتوجه‌به چالش‌های زیرساختی که این شرکت به‌دلیل محدودیت‌های صادراتی آمریکا با آن‌ها مواجه بوده، بسیار قابل‌توجه است. گزارش‌ها نشان می‌دهند فرایند پنج نانومتری جدید SMIC به‌جای استفاده از فناوری پیشرفته‌تر لیتوگرافی EUV، از لیتوگرافی قدیمی‌تر DUV بهره می‌برد.

لیتوگرافی DUV از نور فرابنفش با طول موج حدود ۱۹۳ نانومتر برای حک‌کردن الگوهای مدار روی ویفرهای سیلیکونی استفاده می‌کند. در مقابل، لیتوگرافی EUV از نور فرابنفش با طول موج ۱۳٫۵ نانومتر بهره می‌برد که امکان ایجاد المان‌های بسیار کوچک‌تر را فراهم می‌کند و در نتیجه تولید تراشه‌های قدرتمندتر و کم‌مصرف‌تر را ممکن می‌سازد. به‌همین‌دلیل، EUV برای دستیابی به پیشرفته‌ترین طراحی‌‌ها در صنعت تراشه‌سازی ضروری تلقی می‌شود.ناتوانی SMIC در به‌کارگیری فناوری EUV به تنش‌های جاری میان ایالات‌ متحده و چین ارتباط دارد. شرکت ASML به‌عنوان تأمین‌کننده‌ی کلیدی دستگاه‌های لیتوگرافی EUV، به‌دلیل قوانین صادراتی آمریکا از ارائه‌ی فناوری‌های خود به کارخانه‌های چینی ازجمله SMIC منع شده و در نتیجه تراشه‌ساز چینی برای توسعه‌ی فرایند پنج نانومتری خود مجبور است از لیتوگرافی DUV استفاده کند.

با وجود نگرانی‌های مرتبط با بازده تولید، گوشی هواوی مدل میت ۷۰ به‌احتمال زیاد از پردازنده‌های ساخته‌شده با فرایند پنج نانومتری جدید SMIC استفاده خواهد کرد.